Физики разрабатывают полупроводники нового поколения для космоса и ВПК
03 авг 2018 в 22:38
Slav Rus
|
---|
![]() 25-07-2018 Ученые ТГУ совместно с индустриальным партнером АО НПФ «Микран» создают технологию промышленного производства тонкопленочных полупроводниковых гетероструктур для изделий гражданского, оборонного и космического назначения. В частности, разрабатываются мощные транзисторы с высокой подвижностью электронов (High Electron Mobility Transistor – HEMT) для осуществления сотовой, спутниковой и радиосвязи на высоких частотах. Проект поддержан технологическими платформами «Национальная информационная спутниковая система» и «Национальная космическая технологическая платформа». В реализации междисциплинарного проекта на стыке физики, радиофизики и химии задействованы ученые РФФ, ФТФ и ФФ ТГУ. «Проблема повышения удельной мощности транзисторов и тем самым их дальнодействия будет решаться с помощью нового химического состава полупроводниковых материалов, применяемых для производства гетероструктуры, – говорит научный руководитель проекта, директор НОЦ «Наноэлектроника», профессор кафедры физики полупроводников ФФ ТГУ Валентин Брудный. – Для производства современных НЕМТ используют многослойные тонкопленочные гетероструктуры, функциональные характеристики которых могут быть улучшены за счет нитридных соединений индия-алюминия-галлия в сочетаниях, которые ранее промышленно не использовались». ![]() По словам Валентина Брудного, сейчас для производства НЕМТ применяются, главным образом, такие полупроводники, как GaAs, InAs, GaSb. Они обеспечивают высокие рабочие частоты, но имеют малые выходные мощности из-за особенностей их электронных свойств. Применение полупроводниковых нитридов для производства НЕМТ-транзисторов и, в частности, гетероструктуры InAlN/GaN позволит увеличить их удельную мощность, повысить термическую стабильность и устойчивость к внешним высокоэнергетическим воздействиям. В процессе изготовления HEMT летучие металл-органические соединения будут послойно наноситься на подложку из карбида кремния. Суммарная толщина всех слоев составит несколько микрометров (1 мкм = 10-6 метра), что в десятки раз меньше диаметра человеческого волоса. Работы по созданию НЕМТ на основе гетероструктуры InAlN/GaN начаты в ряде фирм во всем мире, но их промышленное производство в настоящее время отсутствует. По окончании проекта ТГУ должен подготовить технологическую документацию для передачи индустриальному партнеру – АО НПФ «Микран», который приступит к промышленному выпуску таких НЕМТ-транзисторов. Компания является одной из наиболее динамично развивающихся высокотехнологичных предприятий в России. Добавим, что ПНИЭР «Исследование и разработка технологии изготовления сверхвысокочастотных монолитных интегральных схем на основе гетероструктур InAlN/GaN для изделий космического применения» № 14.578.21.0240 от 26.09.2017 г. осуществляется в рамках ФЦП «Исследования и разработки по приоритетным направлениям развития научно-технологического комплекса России на 2014-2020 годы» (Уникальный идентификатор проекта RFMEFI57817X240). https://www.rlocman.…?di=517713
|
Комментарии не найдены! |