Цитата: Foxhound от 02.03.2019 23:39:15Про полное вы сильно погорячились. Как минимум малыми сериями с помощью собственной электронно-лучевой литографии их сделать можно.
Эльбрус делается полностью в России. И не по 28ой технологии.
Эльбрус ковыряют на 60-80 Нм размерности на аппаратуре закупленной еще лет 10-15 назад, но компоненты (химия и прочие "пролимеры") вроде достают на общем рынке.. Отследить нереально.. (хотя могу ошибаться)
А там этих компонентов тьма.. от пасты для шлифовки кристаллов (это у ШВАБЕ берут - те поверхности телескопов шлифуют), до ремуверов слоев итд..
Если говорить о размерности 120-180 и более, то есть линии штучного производства оставшиеся еще с СССР (немецкие AMDшные)))
Мы делали в свое время литографические столы, маски, лампы излучатели, итд.итп. в Белоруссии остались рабочие предприятия..там размерность выше 350нм.
Ну, и есть у нас совершенно новая технология.. Она развивается..но в одного не потянем. поэтому только в кооперации
Кто занимается в России этой темой?
- институт спектроскопии РАН (ИСАН)
https://isan.troitsk…ements.php (оптика, источники излучения)
— минский «Планар» (литографические столы)
После статей про российскую микроэлектронику типа этих: На ЭКСПЕРТе "Сложить нанопасьянс" -
https://videoelektro…73441.htmlтакого содержания 2012 год: "..«... — Николай Салащенко показал, что есть еще одно окно, где зеркала могут хорошо отражать: 6,5-6,7 нанометра. Мы поняли, какой должен быть источник на этой длине волны. И сейчас этот источник разрабатываем. Это тоже лазерная или разрядная плазма, которая будет создана на одном из двух элементов — гадолинии или тербии». Фотолитографическая установка на такой длине волны
в перспективе может позволить достичь разрешения 3 нм, которое требуется для изготовления элементов квантового компьютера."
..
и такого : "ASML разработала (с участием российских ученых) прототипы фотолитографической установки на длине волны 13,5 нм еще в 2006 году и направила их для исследований и испытаний в международный микроэлектронный центр IMEC в Бельгии и в аналогичный центр в Олбани, в Соединенных Штатах.."
То есть с 2000 года до 2012 наши институты и лаборатории активно кооперировали с западными (США и Европа) компаниями и институтами и обменивались информацией и разработками. Западные "коллеги" успешно патентовали "под себя" все идеи родившиеся в головах в том числе и наших ученых - потому что приглашали работать их в свои институты, платили деньги..
С 2012-14 года все сайты не обновляются и информация о дальнейшем развитии отсутствует..
Углубившись в информацию по этой теме я нашел ответ "ПОЧЕМУ отсутствует открытая информация о дальнейшем развитии технологий?":
в 2011-12 году разработки по EUV излучению и нанолитографии, а так же ученых вывели в отдельную структуру ОАО "РнД ИСАН" и начали финансировать.. Возможно и "Лабораторию Амфора" тоже взяли в группу..
Что бы понять чем они там занимаются - читать здесь:
http://www.rnd-isan.…ledovaniyaЕсли коротко, то занимаются тех.процессом от 6-10 Нм..
Создание элементов технологии проекционной нанолитографии с использованием источников излучения короче 10нм (Литография с излучением 6,7нм)И кто же ключевое лицо в этой компании? Кошелев.. Тот самый который в самой первой ссылке "Сложить нанопасьянс" еще в 2012 году оптимистично говорил, что "Россия способна должна и может стать мировым лидером в области микроэлектроники.."
Поэтому вывода 2..
1. все заглохло и ничего н еделается и России ничего не светит в области развития собственных технологий в микроэлектроники
2. В России продолжаются работы по развитию таких технологий и наши разработки и наработки или будут реализованы в кооперации с западными компаниями и мы будем получать прОфит от этого, либо сами чего-то выдадим. Разработки перестали быть открытыми потому что содержат видимо некоторые стратегически важные секреты.. ( а может и нет)))
Я сколняюсь к тому, что переход мировой индустрии на размерность 10Нм не осуществиться по одной простой причине: в цене каждой микросхемы будет часть российского патента.... То есть монополии в микроэлектронике может наступить конец а наши "западные друзья" ну никак не могут этого позволить, что бы русские зарабатывали с каждой микросхемы выпущенной в мире..
Есть конечно разработки у мировых лидеров.. Но их не так уж и много.. Всего два. Один ASMLithography как раз плотно сотрудничает с Россией и именно его решения содержат и наши наработки и патенты, а второй в Тайване..
"..В настоящее время лишь две компании в мире ведут разработки фотолитографических машин, действующих в диапазоне проектных норм менее 20 нм: вышеупомянутая ASMLithography и японская Nikon....В последние годы голландская компания ASMLithography разработала фотолитографическое оборудование на длине волны 193 нм с разрешением 32 нм, которое испытывается в Intel и в тайваньской компании TSMC. Однако возможность дальнейшего кардинального уменьшения проектных норм при длине волны источника 193 нм у многих специалистов вызывает сомнения....ASML разработала (с участием российских ученых) прототипы фотолитографической установки на длине волны 13,5 нм еще в 2006 году и направила их для исследований и испытаний в международный микроэлектронный центр IMEC в Бельгии и в аналогичный центр в Олбани, в Соединенных Штатах"И самое важное. Микроэлектроника- это три важных компонента:
1. Это машины которые делают микросхемы - это у нас есть древнее и разработки нового ведутся ("РнД ИСАН")
2. Это архитектура микросхемы - расположение дорожек и транзисторов - это и есть МЦСТ (Эльбрус)
3. Это программное обеспечение - тут уж незнаю как в России. Но ракеты летают, ФМС и ФНС работают, СУ, ПАК ФА и Арматы информацие йобмениваются, карты в планшетах у солдат есть))))))))) Нет наверное программ ширпотреба..Хоят ЛИНУКС..
Не так все страшно на самом деле у нас с Микроэлектроникой.. Страдать об полном отсутствии не стоит..