ASML назвала бессмысленной борьбу стран за технологический суверенитет — только сотрудничество приведёт к успеху

Цитата: неКони от 01.07.2023 10:32:46Взявшие курс на обеспечение технологического суверенитета страны, по мнению представителей ASML, обречены на борьбу с огромными трудностями, и в целом подобные усилия практически бессмысленны. Только кооперация между странами и компаниями может привести полупроводниковую отрасль к успеху, как считает этот поставщик литографического оборудования.

Цитата: неКони от 01.07.2023 10:32:46

 

Ну правильно, вдруг кто сможет сам делать эти машинки, это ж какой крах бизнеса наступит. Лучше сотрудничать, и давать деньги нам, а не себе )

• +1.75 / 51

Цитата: slavae от 01.07.2023 10:37:56Ну правильно, вдруг кто сможет сам делать эти машинки, это ж какой крах бизнеса наступит. Лучше сотрудничать, и давать деньги нам, а не себе )

Цитата: slavae от 01.07.2023 10:37:56

 

Там хохма во второй цитате. Вышедшей через неделю после первой.

• +0.28 / 7

Цитата: неКони от 01.07.2023 10:32:46   «Мы в ASML не верим, что полное разделение (цепочек поставок) возможно. Мы верим, что оно будет крайне тяжело достижимым и запредельно дорогим. Потребуется время, чтобы люди поняли, что единственный путь к успеху в сфере полупроводников лежит через сотрудничество», 

Цитата: неКони от 01.07.2023 10:32:46

 

Что, "высшая" цивилизация, в одиночку даже снабжение на тянете?
.
^{(Очень давно мой акк вынесли на АШ, за то, что я утверждал, что производства будут переезжать к ресурсам)}
.
Добро пожаловать в реальный мир подмосковье!

• +1.00 / 26

Цитата: неКони от 01.07.2023 10:32:46   «Мы в ASML не верим, что полное разделение (цепочек поставок) возможно. Мы верим, что оно будет крайне тяжело достижимым и запредельно дорогим. Потребуется время, чтобы люди поняли, что единственный путь к успеху в сфере полупроводников лежит через сотрудничество», — пояснил представитель компании. Успех самой ASML во многом определяется долгосрочным сотрудничеством с компаниями Zeiss и Cymer в сфере производства литографических сканеров, а также тесным взаимодействием с крупными клиентами типа тайваньской TSMC и американской Intel.

Цитата: неКони от 01.07.2023 10:32:46

 

Какие же они лицемеры.
С одной стороны запрещают поставки современного литографического оборудования ASML в Китай, Россию, Белоруссию, Иран, КНДР и некоторые другие страны, а с другой стороны верещат про "единственный путь - сотрудничество, пожалуйста не разрабатывайте собственные литографы" 

Видать понимают, что монопольное положение скоро может закончиться и Китай с Россией будут обретать полный технологический суверенитет, в отличие от Европы.  
Та же нидерландская ASML ведь не самостоятельно разрабатывает и производит свои изделия. В частности, для EUV-литографов (а именно в этом типе оборудования они пока являются лидерами и монополиистами) ASML пришлось поглотить американскую компанию Cymer, которая разработала источник света. А Zeiss разработал систему зеркал.

Для производства EUV-литографов требуется 100 000 компонентов от более чем 5000 поставщиков по всему миру, предлагающих передовые технологии со всего мира. ASML объединяет ресурсы глобальной промышленной цепочки для обеспечения массового производства EUV-станков, стоящих на вершине пирамиды в цепочке поставок для изготовления чипов.
Одна из проблем — источник света. В EUV-литографии в качестве источника света применяется плазма (laser-produced-plasma, LPP), которая создается из капель олова, которые сжигает углекислотный лазер. К слову, источник света из плазмы был создан компанией Cymer, которую ASML купила за 3,1 млрд евро в 2013 году. Затем система из несколько зеркал (см рисунок к статье) перенаправляет свет на пластину. Система зеркал — отдельная серьезная проблема: нужно несколько раз отражать излучение с длиной волны 13,5 нм, а оно предельно плохо отражается от чего угодно, EUV – это почти рентгеновское излучение, граница проходит, напомним, на уровне 10 нм. Если свет с длиной волны 13,5 нм пройдет через систему обычных зеркал, он попросту будет поглощен и рассеян. Поэтому зеркала делают как брэгговские отражатели — многослойными, собирающими несколько отражений в одно достаточно сильное. Зеркала в EUV-машинах созданы компанией Zeiss и состоят из 50 пар перемежающихся слоев кремния и молибдена (в целом 100 слоев Mo/Si), при этом толщина слоя молибдена 2,7 нм, а слоя кремния — 4,1 нм. В первой версии зеркал, показанных компанией Carl Zeiss в 2010 году, лучи ультрафиолета не только отражались, но и рассеивались, и это было недопустимо. Потребовалось еще много лет работы, чтобы убрать этот эффект. Разработавшая зеркала компания получила в ходе работы порядка 2000 патентов.

____________________________________________

В отличие от голландской ASML и ряда американских/японских производителей подобного оборудования, у РФ и КНР будет на 100% локализованный продукт, не зависящий от поставок извне. 

Китай сейчас делает большие успехи в разработке и производстве такого оборудования. Они уже выпускают собственные литографы 28 нм, в этом году планировалось произвести первые литографы 20 нм. К 2030-му году в КНР поставлена задача самостоятельно производить EUV-литографы, а это уже 5 и даже 3 нм. На эту задачу в Китае расходуются колоссальные средства, десятки, если не сотни миллиардов долларов в год. В ходу идут все средства, в том числе широко распространен промышленный шпионаж:

ЦитатаКитай обвинили в краже секретных технологий, используемых при производстве оборудования для литографии, пишет CNBC. С таким заявлением выступила голландская компания ASML – крупнейший в мире поставщик такого «железа». 

Голландский вендор сообщил, что один из бывших ее работников в Китае незаконно получил доступ к важной запатентованной технологии, которая не должна была попасть в чужие руки, и выкрал ее. «Мы столкнулись с несанкционированным неправомерным присвоением данных, относящихся к запатентованным технологиям, со стороны (теперь уже) бывшего сотрудника в Китае», – говорится в годовом отчете ASML.

https://www.cnews.ru…ervazhnuyu
...

В России сейчас сразу в нескольких НИИ разрабатывают несколько своих литографов. 
Так, в Зеленограде на ЗНТЦ планируют выпускать 65-350 нм литографы. Опытный образец 350 нм ожидается в 2024 году, серийное производство планируют запустить к 2025 году. Первый опытный образец литографа 130 нм планируется выпустить в 2025, серийное производство с 2026, потом его модернизируют до 65 нм. 
https://www.zelenogr…c-kovalev/

Параллельно в Нижнем Новгороде на ИПФ/ИФМ РАН разрабатывается 7-28 нм литограф. Будет три этапа: 2024-ый год альфа машина (фактически перед нами будет готовый литограф, способный проводить полный цикл печати чипов по 7-нм техпроцессу), 2026-ой год бета машина (системы будут улучшены и усложнены, увеличится разрешение, повысится производительность, многие операции будут роботизированы, установку уже можно будет применять на масштабных производствах), 2028-ой год финальная (промышленная) версия.  
По словам разработчиков, уже сегодня демонстратор превосходит все существующие аналоги ASML. Основной плюс состоит в том, что источник излучения более компактный, а выход годных чипов будет намного выше того, что предлагает голландский сканер. Таким образом можно будет говорить о дешевизне конечных продуктов, а также менее высокой стоимости самого оборудования. Предполагается, что отечественный литограф окажется до двух раз эффективнее западных аналогов.
https://www.cnews.ru…razrabotka

• +2.68 / 68

Цитата: User78 от 01.07.2023 11:33:24Какие же они лицемеры.
С одной стороны запрещают поставки современного литографического оборудования ASML в Китай, Россию, Белоруссию, Иран, КНДР и некоторые другие страны, а с другой стороны верещат про "единственный путь - сотрудничество, пожалуйста не разрабатывайте собственные литографы" 

Цитата: User78 от 01.07.2023 11:33:24

 

.
Они не просто лицемерны - они лжецы !
.
Эти падонки забыли, что для решения своих фундаментальных проблем с литографом они приезжали к русским ученым в Россию.

• +0.02 / 1