ASML и Imec объявили о прорыве в области литографии с высоким числом апертуры High-NA

Нидерландская компания ASML и бельгийский исследовательский центр Imec объявили о успешном запуске первой в мире литографической системы с высокой числовой апертурой (High-NA). Данное достижение знаменует собой важный шаг в развитии микроэлектроники, открывая путь к созданию транзисторов размером менее 2 нанометров.
                               
В ходе испытаний новой системы Twinscan EXE:5000 EUV были достигнуты впечатляющие результаты. Инженерам удалось создать логические структуры размером до 9,5 нм, что примерно на 30% меньше, чем позволяют нынешние технологии. Кроме того, были напечатаны элементы памяти DRAM размером 32 нм и двумерные структуры в 22 нм - все это за одну экспозицию. Такие показатели открывают дорогу к массовому производству чипов по технологии 1,4 нм, что еще недавно казалось недостижимым.
                                        
Несмотря на очевидные преимущества, внедрение High-NA литографии имеет несколько недостатков. Стоимость каждой машины превышает 400 миллионов долларов, что вынуждает производителей чипов тщательно взвешивать решение о переходе на новую технологию. В связи с этим, компания TSMC, мировой лидер в производстве полупроводников, пока воздерживается от немедленного внедрения High-NA, опасаясь нарушить текущие производственные процессы.
                                  
https://overclockers.ru/blog/F…ry-High-NA