Большой передел мира
266,684,209
521,977
|
DeC ( Профессионал ) |
| 11 фев 2022 13:44:11 |
В России начали разработку отечественных литографических сканеров — их производство начнут в 2025–2026 годах
новая дискуссия Новость 1.086
22:26 - 10/Фев/22
В конце прошлого года Минпромторг выделил 5,7 млрд рублей на разработку отечественных литографических сканеров. На днях стало известно, что Зеленоградский нанотехнологический центр (ЗНТЦ) приступил к проектным работам по этому заказу. Подробно о планах центра по проекту ресурсу zelenograd.ru рассказал генеральный директор ЗНТЦ Анатолий Ковалёв.
Центр заключил с Минпромторгом два контракта: один на разработку сканеров с уровнем топологии до 350 нм, второй — до 130 нм (в интервью говорится о степперах, хотя это старое название сканеров, когда фотомаски механически сдвигались для проекции на новый участок кремниевой подложки). В итоге, как планируется, полностью отечественные фотолитографы придут на замену импортным, в частности, используемым сейчас на зеленоградских фабриках.
Освоение серийного производства фотолитографов на 350 нм ожидается в 2025 году. Для установки будет взят готовый полупроводниковый лазер отечественного производства. Не исключено, что в будущем для этого могут быть также использованы лазеры зеленоградских компаний. Согласно контракту, проект сканера и его опытный образец должны быть готовы к концу 2024 года, включая всю документацию для запуска серийного производства установки.
Из конкурсной документации следует, что 350-нм сканер будет представлять собой 3,5-тонную установку размерами 2 × 2,6 × 2,5 м с управляющим комплексом габаритами 2 × 0,8 × 1,6 м. Установка ориентирована на обработку 150- и 200-мм кремниевых подложек.
Разработка 130-нм сканера завершится примерно на год позже. Для этого сканера будет с нуля создаваться отечественный 193-нм лазер, чтобы уйти от импортных комплектующих, в частности, от лазеров американской компании Cyber, которые сегодня широко используются на российских полупроводниковых заводах. По этой причине завершение проекта 130-нм сканера затянется на чуть большее время.
В серийное производство проект 130-нм сканера с возможностью обработки до сотни 200-мм пластин в час передадут в конце 2026 года. В дальнейшем установка будет модернизирована для выпуска чипов с меньшими технологическими нормами вплоть до 65 нм. Снижение размеров топологии, в том числе, будет достигаться двойным экспонированием. Основным типоразмером пластин для этого сканера станет 200-мм подложка с опциональным использованием 150-мм подложек.
По словам разработчиков, подавляющее большинство заказов на выпуск чипов в мире лежит в диапазоне от 250 до 65 нм, поэтому нет смысла гнаться за десятками и единицами нанометров. Для России в этом проекте главное — это уйти от возможных санкций на поставки промышленного полупроводникового оборудования. Собственное производство сканеров может обезопасить электронную промышленность страны.
Серийный производитель сканеров ещё не выбран. Это может быть ЗНТЦ, зеленоградские компании или белорусские партнёры в лице компании «Планар». В СССР литографические сканеры, которые, кстати, до сих пор продолжают работать на российских фабриках, выпускал минский завод «Планар». Эта практика может распространиться на выпуск сканеров нового поколения.
Источник
В конце прошлого года Минпромторг выделил 5,7 млрд рублей на разработку отечественных литографических сканеров. На днях стало известно, что Зеленоградский нанотехнологический центр (ЗНТЦ) приступил к проектным работам по этому заказу. Подробно о планах центра по проекту ресурсу zelenograd.ru рассказал генеральный директор ЗНТЦ Анатолий Ковалёв.
Центр заключил с Минпромторгом два контракта: один на разработку сканеров с уровнем топологии до 350 нм, второй — до 130 нм (в интервью говорится о степперах, хотя это старое название сканеров, когда фотомаски механически сдвигались для проекции на новый участок кремниевой подложки). В итоге, как планируется, полностью отечественные фотолитографы придут на замену импортным, в частности, используемым сейчас на зеленоградских фабриках.
Освоение серийного производства фотолитографов на 350 нм ожидается в 2025 году. Для установки будет взят готовый полупроводниковый лазер отечественного производства. Не исключено, что в будущем для этого могут быть также использованы лазеры зеленоградских компаний. Согласно контракту, проект сканера и его опытный образец должны быть готовы к концу 2024 года, включая всю документацию для запуска серийного производства установки.
Из конкурсной документации следует, что 350-нм сканер будет представлять собой 3,5-тонную установку размерами 2 × 2,6 × 2,5 м с управляющим комплексом габаритами 2 × 0,8 × 1,6 м. Установка ориентирована на обработку 150- и 200-мм кремниевых подложек.
Разработка 130-нм сканера завершится примерно на год позже. Для этого сканера будет с нуля создаваться отечественный 193-нм лазер, чтобы уйти от импортных комплектующих, в частности, от лазеров американской компании Cyber, которые сегодня широко используются на российских полупроводниковых заводах. По этой причине завершение проекта 130-нм сканера затянется на чуть большее время.
В серийное производство проект 130-нм сканера с возможностью обработки до сотни 200-мм пластин в час передадут в конце 2026 года. В дальнейшем установка будет модернизирована для выпуска чипов с меньшими технологическими нормами вплоть до 65 нм. Снижение размеров топологии, в том числе, будет достигаться двойным экспонированием. Основным типоразмером пластин для этого сканера станет 200-мм подложка с опциональным использованием 150-мм подложек.
По словам разработчиков, подавляющее большинство заказов на выпуск чипов в мире лежит в диапазоне от 250 до 65 нм, поэтому нет смысла гнаться за десятками и единицами нанометров. Для России в этом проекте главное — это уйти от возможных санкций на поставки промышленного полупроводникового оборудования. Собственное производство сканеров может обезопасить электронную промышленность страны.
Серийный производитель сканеров ещё не выбран. Это может быть ЗНТЦ, зеленоградские компании или белорусские партнёры в лице компании «Планар». В СССР литографические сканеры, которые, кстати, до сих пор продолжают работать на российских фабриках, выпускал минский завод «Планар». Эта практика может распространиться на выпуск сканеров нового поколения.
Источник
ОТВЕТЫ (8)
|
Arbyzoff ( Слушатель ) |
| 12 фев 2022 12:51:04 |
Цитата: DeC от 11.02.2022 13:44:11
Покопался в инете, чтобы понять насколько это хорошая новость. Вот что выяснил.
Литографический сканер - это основная и самая сложная часть оборудования для производства микропроцессоров. Фактически - станок для производства процессоров всех видов.
Такие сканеры Россия сейчас делать не умеет и раньше никогда не делала.
На имеющихся микропроцессорных предприятиях в России, например Ангстрем и Микрон в Зеленограде, используются устаревшие сканеры западного и белорусского производства.
Почему устаревшие? Потому что в мире такое оборудование сейчас производят только три западные страны - Нидерланды, США, Япония. Нашей стране новые литографические системы Запад не продавал раньше и тем более не продаст теперь. И вероятно заблокирует все наши попытки купить б/у оборудование у третьих стран.
Так что новость про запуск проекта по производству собственных сканеров - она очень хорошая!
Теперь про цифры 350 нм, 130 нм и пр. Чем меньше цифры - тем более технологичный и современный процесс. Тут можно поглядеть подробней https://ru.wikipedia.org/wiki/…ышленности
Если коротко, техпроцесс 130 нм, которого мы должны достигнуть в 2026 году, он не современный и использовался компаниями Intel и AMD для выпуска их процессоров в 2001-2004 годах.
Даже сейчас самые технологичные микропроцессорные производства в России используют западное оборудование с техпроцессами 130-65 нм.
Наши новейшие процессоры Эльбрус используют улучшенный техпроцесс 28 нм и поэтому поизводятся на Тайване.
Новейшие западные микропроцессоры (процессоры Intel и AMD, графические процессоры для видеокарт Nvidia, чипы памяти Samsung, процессоры для смартфонов Apple и Qualcomm и т.п.) производятся на оборудовании с техпроцессами 14 - 5 нм.
В общем размеры нашего технологического отставания в 20+ лет обескураживают.
Но есть повод для оптимизма. Да, мы не сможем делать самостоятельно топовую микроэлектронику в ближайшие годы. Однако есть множество областей, где будет достаточно техпроцессов в 130-65 нм, к которым мы стремимся. Это - автомобильная микроэлектроника, силовая, для микроэлектромеханических систем, для военных потребителей. И то, что мы скоро закроем наши нужды в этих областях самостоятельно - очень позитивный факт. А техпроцессы мы обязательно нагоним, уже начали.
|
Ilya Kaiten ( Слушатель ) |
| 12 фев 2022 13:29:51 |
Цитата: Arbyzoff от 12.02.2022 12:51:04
Насколько я понимаю, в контексте воен прома, чем толще проводники, тем большей энергии должен быть ЭМИ, чтобы выжечь микросхему. Х.з. насколько это существенно и перекрывает ли большее энергопотребление самой электроники... Тут физиков много шарахается - если что отпинают.
|
|
iz_kirova. ( Специалист ) |
| 12 фев 2022 13:44:07 |
Там больше рулит не толщина проводника, а толщина управляемых каналов транзисторов. Электрическая прочность на пробой иными словами. Но в целом модель соответствует.
|
|
kerosene ( Слушатель ) |
| 12 фев 2022 14:29:44 |
Цитата: Arbyzoff от 12.02.2022 12:51:04
У меня есть стойкое ощущение, что эту информацию какой-то журналамер высосал из пальца.
Начнем с азов: установка для засвечивания кремниевой пластины называется литограф, а сам процесс - фотолитография. Сами установки делятся на 2 класса: от 90 нм и выше - степперы, так как там двигается сам стол, а все что ниже 90 нм - сканеры, так как там двигается сканирующая диафрагма.
Что касается того, что Россия создаст степпер на 350 нм - это полный бред, так как такие установки давно и успешно производит белорусское ОАО "Планар" (КБТЭМ-ОМО). Причем производит двух типов: лазерные многоканальные безмасковые и традиционные степперы, требующие маски для проецирования с них изображения на пластину.
Ну и во-вторых, в России уже ведется ряд научных работ по созданию отдельных элементов для опытной безмасковой установки на основе матрицы микрофокусных рентгеновских трубок. Речь идет о 28 нм и ниже. Иное дело, что эта установка низкопроизводительная и годится только для прототипирования и мелкосерийного производства. Но никто не мешает сделать более производительную установку или несколько низкопроизводительных.
|
Senya ( Профессионал ) |
| 12 фев 2022 15:19:50 |
Цитата: kerosene от 12.02.2022 14:29:44
Термин "сканер" я встречал ещё в конце 90-х, когда о 90 нм и не задумывались.
Цитата: kerosene от 12.02.2022 14:29:44
Конкретно степпер у них рекламируют на 1 мкм. Изготовление и коррекция шаблонов да, есть и мельче.
Цитата: kerosene от 12.02.2022 14:29:44
Там два подводных камня. Первый - действительно ли все комплектующие выпускают на территории Белоруссии и России? Второй - за десять лет продано оборудования на 70 млн. долларов, в том числе более 70% в Россию. Для современной электроники и современного оборудования это совершенно смешные суммы. Подержанная линия АМД на 130 нм обошлась примерно в миллиард долларов.
|
|
kerosene ( Слушатель ) |
| 12 фев 2022 15:53:17 |
Цитата: Senya от 12.02.2022 15:19:50
Первые сканеры ASML TwinScan появились только в начале 2000-х. До этого были степперы PAS 5500.
Что касается белорусов, то вот:
ЭМ-5489 МНОГОКАНАЛЬНЫЙ ЛАЗЕРНЫЙ ГЕНЕРАТОР ИЗОБРАЖЕНИЙ НА БАЗЕ ТВЕРДОТЕЛЬНОГО ЛАЗЕРА
Генератор изображения позволяет формировать топологию на полупроводниковых подложках и при этом обеспечивать совмещение с предыдущими слоями (безмасковая оптическая литография). Изображение формируется по принципу растрового сканирования с использованием 32-канальной архитектуры.
В системе экспонирования применяется непрерывный ультрафиолетовый аргоновый лазер с длиной волны 257.2 нм. Мощность лазера 1000 мВт.
| Размер минимального элемента, нм | 350 |
| Время экспонирования области 100х100мм, мин | 120 |
| Размер поля экспонирования, мм | 215х215 |
| Совмещаемость комплекта шаблонов, нм | 50 |
| Неровность края элементов топологии, нм | 30 |
| Дискретность адресной сетки, нм | 1.25 |
| Потребляемая мощность, не более, кВт | 55 |
ЭМ-5784 АВТОМАТИЧЕСКАЯ УСТАНОВКА СОВМЕЩЕНИЯ И ЭКСПОНИРОВАНИЯ
- установка производит фотомонтаж изображения, выбирая нужный фрагмент на промежуточном фотошаблоне и проецируя его в определенное поле экспонируемой пластины;
- источник излучения твердотельный лазер;
- промежуточный шаблон размещается на координатном столе, который может перемещаться по оси Y с высокой точностью относительно подложки;
- возможность работы с пьезоэлектрическими подложками: ниобата лития, танталата лития, пьезокварца, лангасита, лангатата и др.
|
|
|
Senya ( Профессионал ) |
| 12 фев 2022 16:01:39 |
Цитата: kerosene от 12.02.2022 15:53:17
Могу только повторить, это была моя специальность в ВУзе (но я по ней не работал, поэтому экспертом не являюсь). Термин "сканер" знал всегда, "степпер" услышал уже много позже.
Цитата: kerosene от 12.02.2022 15:53:17
Я это прочитал на их сайте и в нескольких других рекламных публикациях. Возникшие вопросы озвучил.
|
MikeGin1968 ( Слушатель ) |
| 12 фев 2022 17:44:36 |
Цитата: kerosene от 12.02.2022 14:29:44
https://www.rbc.ru/m…81cdb1776c
https://habr.com/ru/news/t/385829/
Сапфиры из России: как «Монокристалл» удерживает мировое лидерство
Крупнейший в мире искусственный сапфир весом в 300 кг на Форуме «Открытые инновации»
Новости 2015 года,
Думаю мы многое не знаем и про литографию
https://russianelect…ngstrem-t/
Десятки тайваньских спецов займутся российской электроникой на заводе «Ангстрем-Т»