Тайвань

Цитата: DeC от 11.11.2024 23:56:46Новый закон Тайваня запрещает TSMC производить 2-нанометровые (2 нм) чипы за пределами страны

Этот запрет распространяется также на США.

TSMC должна хранить свои самые сложные технологии, такие как производство 2 нм чипов, в пределах границ Тайваня в целях национальной безопасности.

Цитата: DeC от 11.11.2024 23:56:46

 

Ога... А сканеры двухнанометровые эти недокитайцы где возьмут?
У ASML, как всегда? Так ASML полностью под американским контролем. Не захотят янкесы, и не будет никаких 2нм.

• +1.25 / 26

Цитата: Vaal от 12.11.2024 11:06:17Ога... А сканеры двухнанометровые эти недокитайцы где возьмут?
У ASML, как всегда? Так ASML полностью под американским контролем. Не захотят янкесы, и не будет никаких 2нм.

Цитата: Vaal от 12.11.2024 11:06:17

 

ASML это не царь и бог, а лишь конечный сборщик труда многих компаний, в том числе и инженеров TSMС. Грубо говоря если Тайвань,  отрезать от голландцев то и самим голландцам может очень сильно поплохеть.

• +1.32 / 23

Цитата: South от 12.11.2024 11:11:56ASML это не царь и бог, а лишь конечный сборщик труда многих компаний, в том числе и инженеров TSMС. Грубо говоря если Тайвань,  отрезать от голландцев то и самим голландцам может очень сильно поплохеть.

Цитата: South от 12.11.2024 11:11:56

 

Там около 200 компаний , в т.ч. несколько российских (по крайней мере были года три назад). И все это ASML.

• +1.07 / 19

Цитата: Moksha от 12.11.2024 11:24:27Там около 200 компаний , в т.ч. несколько российских (по крайней мере были года три назад). И все это ASML.

Цитата: Moksha от 12.11.2024 11:24:27

 

    
Там не только 200 компаний, но и КНР с ракетами рядом за проливчиком.
И КНР может решить, что негоже оставлять на ходу фабрики, более продвинутые, чем те, что уже есть у правильных китайцев - и разом мочнуть всё, что тоньше,  скажем, 7 нм.
У корейцев, кстати, тоже.

• +0.61 / 12

Цитата: dmitriк62 от 12.11.2024 11:52:57
Там не только 200 компаний, но и КНР с ракетами рядом за проливчиком.
И КНР может решить, что негоже оставлять на ходу фабрики, более продвинутые, чем те, что уже есть у правильных китайцев - и разом мочнуть всё, что тоньше,  скажем, 7 нм.
У корейцев, кстати, тоже.

Цитата: dmitriк62 от 12.11.2024 11:52:57

 

Вы перепутали ASML с TSMC . ASML в Голландии.

• -0.11 / 3

Цитата: Moksha от 12.11.2024 12:21:48Вы перепутали ASML с TSMC . ASML в Голландии.

Цитата: Moksha от 12.11.2024 12:21:48

 

Но ход Ваших мыслей мне нравится (с)

• +0.12 / 2

Цитата: Moksha от 12.11.2024 12:21:48Вы перепутали ASML с TSMC . ASML в Голландии.

Цитата: Moksha от 12.11.2024 12:21:48

 

   
Это единый организм, ничего я не перепутал.
   
Здесь многие представляют себе ASML как "голландскую компанию, которая продаёт оборудование", что-то вроде эдакой Роде-унд-Шварц.
Это всё равно, что рассуждать о глобальных финансах и займах на уровне "занял у соседа десятку до получки".
    

• +0.14 / 16

Цитата: Vaal от 12.11.2024 11:06:17Ога... А сканеры двухнанометровые эти недокитайцы где возьмут?
У ASML, как всегда? Так ASML полностью под американским контролем. Не захотят янкесы, и не будет никаких 2нм.

Цитата: Vaal от 12.11.2024 11:06:17

 

Внутренние разборки глобалистов с республиканцами , скорее всего , иначе не объяснить .

• +0.08 / 3

Цитата: Vaal от 12.11.2024 11:06:17Ога... А сканеры двухнанометровые эти недокитайцы где возьмут?
У ASML, как всегда? Так ASML полностью под американским контролем. Не захотят янкесы, и не будет никаких 2нм.

Цитата: Vaal от 12.11.2024 11:06:17

 

Литограф  ASML -- это всего лишь инструмент. Очень сложный, но все таки инструмент. Тут все ясно -- нет инструмента, нет и изделия. Но, ASML свои литорафы может продать куда угодно кроме TMSC. Если не сегодня, то завтра. И что этому инструменту подсунут в виде фотошаблонов, то он в кремнии и выдаст. А вот сделать фотошаблоны. чтобы выхлоп литографа  ASML функционировал как задумано, это уже и есть та самая технология. Вот ее TMSC и закокомил.

• -0.08 / 7

Цитата: adolfus от 12.11.2024 22:35:05Литограф  ASML -- это всего лишь инструмент. Очень сложный, но все таки инструмент. Тут все ясно -- нет инструмента, нет и изделия. Но, ASML свои литорафы может продать куда угодно кроме TMSC. Если не сегодня, то завтра. И что этому инструменту подсунут в виде фотошаблонов, то он в кремнии и выдаст. А вот сделать фотошаблоны. чтобы выхлоп литографа  ASML функционировал как задумано, это уже и есть та самая технология. Вот ее TMSC и закокомил.

Цитата: adolfus от 12.11.2024 22:35:05

 

Фотошаблоны делает stepper. Обычно покупается вместе с литографом.
Кстати, я не знаю кто сейчас производит степперы

• +0.69 / 11

Цитата: ps_ от 12.11.2024 22:42:44Фотошаблоны делает stepper. Обычно покупается вместе с литографом.
Кстати, я не знаю кто сейчас производит степперы

Цитата: ps_ от 12.11.2024 22:42:44

 

Фотошаблон производится из файла с описанием топологии изделия. Это просто маска, пропускающая свет где есть дырка и не пропускающая там, где дырки нет. Один фотошаблон -- один слой на кристале для одного изделия. Таких слоев в изделии может быть до нескольких десятков.
Степпер берет шаблон, оптически его уменьшает и "тиражирует" по пластине, сдвигая ее на определенный шаг и засвечивая. Это один из компонент того "сарая", что производит ASML.
И тут вопрос -- каким образом излучение УФ лазера с длиной волны ~100 нм, проходя через маску, создает на кристалле картинку с разрешением несколько нм. Дело в том, что реально на кристалле после прохождения маски из-за диффракции на всей маске создается определенная интерференционная картинка. Т.е. вся маска вносит вклад в каждую точку результирующей засветки, которая представляете собой интерференционную картинку. И создание фотошаблона -- это создание таких масок, проходя через которую картинка на кристалле будет представлять собой требуемую топологию. Достаточно сложная вычислительная задача и не только лишь все... TMSC из тех, кто умеет и ASML к этому никакого отношения.

• +0.30 / 19

Цитата: adolfus от 13.11.2024 09:43:43Фотошаблон производится из файла с описанием топологии изделия.
Степпер берет шаблон, оптически его уменьшает и "тиражирует" по пластине, сдвигая ее на определенный шаг и засвечивая. Это один из компонент того "сарая", что производит ASML.
И тут вопрос -- каким образом излучение УФ лазера с длиной волны ~100 нм, проходя через маску, создает на кристалле картинку с разрешением несколько нм. Дело в том, что реально на кристалле после прохождения маски из-за диффракции на всей маске создается определенная интерференционная картинка. Т.е. вся маска вносит вклад в каждую точку результирующей засветки, которая представляете собой интерференционную картинку. И создание фотошаблона -- это создание таких масок, проходя через которую картинка на кристалле будет представлять собой требуемую топологию. Достаточно сложная вычислительная задача и не только лишь все... TMSC из тех, кто умеет и ASML к этому никакого отношения.

Цитата: adolfus от 13.11.2024 09:43:43

 

Какой нах УФ лазер 100нм?
Передовые сканеры работают уже на рентгеновсом излучении. Рентгеновскую оптику, кстати, для ASML русские разработали... а делают немцы, если не ошибаюсь. Там длина волны порядка 10 нм.

Сейчас в РФ ваяют собственные сканеры. К 2030 обещают достижение сравнимых параметров.С оригинальным источником рентгеновского излучения, и собственной системой рентгеновской оптики.
Собака лает, - караван идет.
Ну, дай то бог...

• +1.12 / 33

Цитата: adolfus от 13.11.2024 09:43:43-Кусь-
И тут вопрос -- каким образом излучение УФ лазера с длиной волны ~100 нм, проходя через маску, создает на кристалле картинку с разрешением несколько нм. Дело в том, что реально на кристалле после прохождения маски из-за диффракции на всей маске создается определенная интерференционная картинка. Т.е. вся маска вносит вклад в каждую точку результирующей засветки, которая представляете собой интерференционную картинку. И создание фотошаблона -- это создание таких масок, проходя через которую картинка на кристалле будет представлять собой требуемую топологию. Достаточно сложная вычислительная задача и не только лишь все... TMSC из тех, кто умеет и ASML к этому никакого отношения.

Цитата: adolfus от 13.11.2024 09:43:43

 

У ASML длина волны излучения 13+ нм. В России для вновь разрабатываемого оборудования принято 11+ нм. 
Требуемая ширина засвеченного участка обеспечивается частичным сдвигом фотошаблона с суммированием времени засветки. На краях создаваемых элементов время засветки меньше и в этой части фоторезист не активируется.

• +0.01 / 1

Цитата: adolfus от 12.11.2024 22:35:05Литограф  ASML -- это всего лишь инструмент. Очень сложный, но все таки инструмент. Тут все ясно -- нет инструмента, нет и изделия. Но, ASML свои литорафы может продать куда угодно кроме TMSC. Если не сегодня, то завтра. И что этому инструменту подсунут в виде фотошаблонов, то он в кремнии и выдаст. А вот сделать фотошаблоны. чтобы выхлоп литографа  ASML функционировал как задумано, это уже и есть та самая технология. Вот ее TMSC и закокомил.

Цитата: adolfus от 12.11.2024 22:35:05

 

А фотошаблоны, - это оснастка для литографа. Значительно менее сложная, чем литограф.
Ежели недокитайцы пожелают закрыть фотошаблоны, ASML вполне может закрыть литографы для них. Эта история только начинается, короче.

• +0.81 / 13

Цитата: Vaal от 13.11.2024 11:24:53А фотошаблоны, - это оснастка для литографа. Значительно менее сложная, чем литограф.
Ежели недокитайцы пожелают закрыть фотошаблоны, ASML вполне может закрыть литографы для них. Эта история только начинается, короче.

Цитата: Vaal от 13.11.2024 11:24:53

 

А дальше идут десятки (сейчас может уже и сотни, я от жизни отстал) таких операций как ионная имплантация всевозможными легандами, окисление, напыление, травление ионное и химическое, и отжиги, отжиги, отжиги для восстановления кристаллической структуры после каждого чиха, и всё это с точностью до вольт, градусов и секунд, чтобы в процессе не уничтожить уже созданные на кристалле структуры. Что собственно и есть технология (а всё предыдущее - производственная оснастка). Ну и библиотеки элементов, где все пространственные структуры на кристалле спроектированы так, чтобы их можно было с помощью данной технологии изготовить. Сложное это дело.

• +1.27 / 14

Цитата: Vaal от 13.11.2024 11:24:53А фотошаблоны, - это оснастка для литографа. Значительно менее сложная, чем литограф.
Ежели недокитайцы пожелают закрыть фотошаблоны, ASML вполне может закрыть литографы для них. Эта история только начинается, короче.

Цитата: Vaal от 13.11.2024 11:24:53

 

Что начит "закрыть"?
 
Это их собственная внутренняя "фишка", они её, в отличии от продукции ASML не экспортировали. И "на сторону" не продавали.
 
Т.е. необходимое, чтобы на входе изображение которое должно получиться после травления экспонированной пластины превратить на выходе в маску для фотошаблона с учётом дифракции. Решение обратной задачи с нелинейными формами. Со всеми необходимыми для рассчёта совсем не слабыми вычислительными мощностями.
 
И плюс всё то, о чём написал Senya выше:

Цитата: Senya от 13.11.2024 11:31:23А дальше идут десятки (сейчас может уже и сотни, я от жизни отстал) таких операций как ионная имплантация всевозможными легандами, окисление, напыление, травление ионное и химическое, и отжиги, отжиги, отжиги для восстановления кристаллической структуры после каждого чиха, и всё это с точностью до вольт, градусов и секунд, чтобы в процессе не уничтожить уже созданные на кристалле структуры. Что собственно и есть технология (а всё предыдущее - производственная оснастка). Ну и библиотеки элементов, где все пространственные структуры на кристалле спроектированы так, чтобы их можно было с помощью данной технологии изготовить. Сложное это дело.

Цитата: Senya от 13.11.2024 11:31:23

 

 
Причём даже при размещении завода в США... они по-прежнему все рассчёты могут делать у себя на Тайване. Файл со слоем туда, файл с экспозицией фоторезиста для изготовления шаблона обратно.

• +0.42 / 10