Компания-резидент ОЭЗ "Технополис Москва" создала первый в России фотолитограф с разрешением 350 нанометров

Компания-резидент ОЭЗ "Технополис Москва" создала первый в России фотолитограф с разрешением 350 нанометров
 
 В мире меньше 10 стран, способных создавать это ключевое оборудование для производства микросхем. Теперь в их числе — Россия.
 
Сделали важнейший шаг к переходу на собственное производство микроэлектроники и полной технологической независимости государства.
 
Российский фотолитограф создан в партнёрстве с белорусским заводом, имеющим огромный опыт в этой сфере.
 
Наша установка серьёзно отличается от зарубежных аналогов. Впервые в качестве излучения использовали не ртутную лампу, а твердотельный лазер — мощный и энергоэффективный, с высокой долговечностью и более узким спектром.
 
На фотолитограф уже есть заказчик. Ведётся адаптация технологических процессов к особенностям производства конечного потребителя.
 
Также сейчас идёт разработка фотолитографа с разрешением 130 нанометров. Завершить его планируется в 2026 году.