Модернизация России
1,419,019 3,524
 

  Эхo ( Слушатель )
17 фев 2012 14:07:43

Тред №391408

новая дискуссия Дискуссия  98

В Зеленограде запущена линия производства микросхем

ЦитатаОАО "Ситроникс" совместно с ОАО "Роснано" запустили в Зеленограде линию производства микросхем на основе технологии 90 нанометров, передает корреспондент РИА Новости.

"Производство полного цикла с R&Д - центром позволит нам встроиться в мировой рынок, используя собственные ноу-хау и технологии", - сказал президент "Ситроникс" Сергей Асланян.

Конечными продуктами проекта станут чипы навигационных систем ГЛОНАСС/GPS, промышленной электроники, а также чипы с расширенной функциональностью для биометрических паспортов и других персональных документов, банковских и социальных карт, SIM-карт и меток радиочастотной идентификации.

Новые интегральные схемы будут обладать большей производительностью и объемом памяти, низким энергопотреблением, более эффективными механизмами защиты.

"Линия производства по технологии 180 нм у нас загружена примерно на 70%, к этому показателю мы шли три года. Запускаемая сегодня линия в первый год будет загружена не более чем на 40%", - сказала РИА Новости директор по маркетингу "Ситроникс микроэлектроника" Карина Абагян.

По ее словам, технологический процесс открываемой линии занимает три месяца. Таким образом, первая готовая продукция по технологии 90 нм на производстве в Зеленограде появится в мае, это будут чипы памяти.

По данным "Ситроникс", линии производства микросхем по технологии 90 нм существуют, кроме России, еще только в семи странах. Это - США, Германия, Япония, Китай, Тайвань, Южная Корея и Франция.

Запущенное в Зеленограде производство базируется на производственной площадке ОАО "НИИ молекулярной электроники и завод "Микрон".

В рамках проекта будет использована лицензия одного из ведущих мировых изготовителей полупроводниковых приборов - компании ST Microelectronics - на технологический процесс изготовления интегральных схем с нормами 90 нанометров. Также предполагается создание дизайн-центра, который будет осуществлять проектирование собственных чипов.

Проектная мощность открываемой линии - три тысячи пластин диаметром 200 мм в месяц, при подготовке к производству площадь "чистых комнат" завода увеличена на 25% до 3,5 тысячи квадратных метров. Тестовая эксплуатация линии началась еще в 2011 году, но коммерческая продукция пока не выпускалась.


http://ria.ru/nano_n…98182.html
  • +0.45 / 7
  • АУ
ОТВЕТЫ (0)
 
Комментарии не найдены!