Тред №391835

Цитата: Foxhound от 18.02.2012 16:06:44
Национальный исследовательский центр "Курчатовский институт" планирует ввести в строй оборудование, позволяющее создавать микросхемы с топологическим размером 10 нанометров, уже к концу 2012 г. Летом прошлого года корпорация Intel объявила о том, что менее чем через год будет готова массово выпускать процессоры с топологией в 22 нм.

EUV-литография дело отдаленного будущего, а вот 17 февраля сего года, в торжественной обстановке на заводе "Микрон" была открыта линия по выпуску микросхем с технологическими нормами 90 нм, расчитанная на выпуск до 36 тысяч 200-мм кремниевых пластин в год. В марте-апреле ожидается КВГ около 90% и начало коммерческой эксплуатации.